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鋅合金壓鑄件的拋光手法

2021-12-19 0

一、機械拋光

  深圳鋅合金壓鑄廠運(yun)(yun)用的(de)(de)(de)機械(xie)(xie)拋光(guang)(guang)首要是靠切削或使(shi)資料(liao)外(wai)(wai)(wai)表(biao)發生塑性變形而去掉(diao)工件外(wai)(wai)(wai)表(biao)凸出部得到平滑面的(de)(de)(de)拋光(guang)(guang)辦(ban)(ban)法(fa)(fa),在(zai)含有磨料(liao)的(de)(de)(de)研拋液(ye)中,緊(jin)壓在(zai)工件被加(jia)工外(wai)(wai)(wai)表(biao)上,作高速旋轉運(yun)(yun)動。使(shi)用該技能可到達ra0.008μm的(de)(de)(de)外(wai)(wai)(wai)表(biao)粗(cu)糙度,是各(ge)種拋光(guang)(guang)辦(ban)(ban)法(fa)(fa)中外(wai)(wai)(wai)表(biao)粗(cu)糙度好的(de)(de)(de)。光(guang)(guang)學鏡(jing)片模(mo)具常選(xuan)用這種辦(ban)(ban)法(fa)(fa)。機械(xie)(xie)拋光(guang)(guang)是模(mo)具拋光(guang)(guang)的(de)(de)(de)首要辦(ban)(ban)法(fa)(fa)。

二、化學拋光

  化(hua)(hua)學(xue)(xue)拋光(guang)是資料(liao)在(zai)化(hua)(hua)學(xue)(xue)介質中(zhong)讓外表微觀凸出的(de)(de)部(bu)(bu)分較凹部(bu)(bu)分優先溶解,然后得到平(ping)滑面。該辦(ban)法可以(yi)拋光(guang)形狀雜亂的(de)(de)工件,可以(yi)同時(shi)拋光(guang)許多工件,效率高。化(hua)(hua)學(xue)(xue)拋光(guang)得到的(de)(de)外表粗(cu)糙度(du)一(yi)般為ra10μm。

三、電解拋光

  電(dian)解(jie)拋光(guang)基本原理(li)與化(hua)學拋光(guang)相(xiang)同,即靠選擇性溶解(jie)資料外表(biao)細小凸(tu)出部分(fen),使外表(biao)光(guang)滑。與化(hua)學拋光(guang)比(bi)較,它可消除陰極反應(ying)的影響,效果(guo)較好。

四、超聲波拋光

  超(chao)聲拋(pao)(pao)光是使用東西斷面作(zuo)超(chao)聲波(bo)振蕩,通過(guo)磨(mo)(mo)料(liao)懸(xuan)浮液(ye)(ye)拋(pao)(pao)光脆硬資(zi)料(liao)的一種加工辦法。將工件(jian)放(fang)入磨(mo)(mo)料(liao)懸(xuan)浮液(ye)(ye)中(zhong)并一同(tong)置(zhi)于超(chao)聲波(bo)場中(zhong),依托超(chao)聲波(bo)的振蕩效果(guo),使磨(mo)(mo)料(liao)在工件(jian)外(wai)表磨(mo)(mo)削拋(pao)(pao)光。超(chao)聲波(bo)加工微觀(guan)力小(xiao),不(bu)會引起工件(jian)變形,但工裝制作(zuo)和裝置(zhi)較困(kun)難。

五、流體拋光

  流體(ti)拋光(guang)是依托活動(dong)(dong)(dong)的(de)(de)液體(ti)及其攜帶的(de)(de)磨粒(li)沖(chong)刷工(gong)件外表到(dao)達(da)拋光(guang)的(de)(de)目的(de)(de)。流體(ti)動(dong)(dong)(dong)力研(yan)磨是由(you)液壓(ya)驅動(dong)(dong)(dong),介質(zhi)首要選用在較低壓(ya)力下(xia)流過性好的(de)(de)特殊化(hua)合物(聚(ju)合物狀物質(zhi))并摻入磨料(liao)制(zhi)成,磨料(liao)可選用碳(tan)化(hua)硅(gui)粉(fen)末。

六、磁研磨拋光

  磁(ci)(ci)研(yan)磨(mo)拋光是使用磁(ci)(ci)性磨(mo)料在磁(ci)(ci)場效(xiao)果下(xia)構成(cheng)磨(mo)料刷(shua),對工件(jian)(jian)磨(mo)削加工。這種(zhong)辦法(fa)加工效(xiao)率高,質量好,加工條件(jian)(jian)簡單(dan)控(kong)制(zhi)。選用合適的磨(mo)料,加工的外表粗糙度可到達(da)ra0.1μm。